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C'est un nouveau record mondial (février 2013) annoncé par Panasonic pour des cellules fabriquées en conditions de laboratoire. Il s'agit des dernières évolutions sur des cellules photovoltaïques issues de la technologie du silicium HIT (Heterojontion with Internal thin Layer).

Avec un rendement de 24,7% (mesuré par le National Institute of Advanced Industrial Sciences, Japon) Panasonic dépasse à la fois les meilleures valeurs obtenues sur des cellules HIT (voir notre article sur les différentes technologies photovoltaïques) ainsi que sur des cellules issues de la technologie silicium monocristallin standard.

Pour atteindre ces performances les chercheurs de Panasonic ont apporté des améliorations sur plusieurs composants de la cellule.

1) Amélioration de la passivation

Grâce à une nouvelle technologie de dépôt de couche mince, Panasonic aurait amélioré la qualité de la couche silicium amorphe, diminuant ainsi les possibilités de recombinaison des paires électron-trou générés par l’effet photovoltaïque.

2) Réduction des pertes optiques

La transparence des couches de surface (oxyde conducteur TCO et silicium amorphe)a été améliorée. De plus les effets d’ombrage du à la grille qui fait office d’électrode à la surface de la cellule ont été réduit.

3) Réduction des pertes résistives (effet Joule)

L'efficacité des électrodes collectrices a été améliorée en limitant les pertes part effet Joule (échauffement de l’électrode). Une partie de cette amélioration provient d’une géométrie des contacts plus favorable (meilleur rapport hauteur/largeur).

Notons encore que, avec une épaisseur de 98 micron, ces cellules sont plus minces que les cellules silicium standards et permettent donc une diminution du coût global. Les cellules photovoltaïques de grande consommation de Panasonic ont actuellement un rendement de 21,6% et Panasonic dit vouloir implémenter ces nouvelles technologies sur les produits fabriqués à une échelle industrielle.

Source: Panasonic